苏州辰华半导体取得一种物理气相沉积设备专利提高了镀膜的质量和可控性博鱼·体育(中国)官方入口

　　博鱼金融界2024年9月26日消息，国家知识产权局信息显示，苏州辰华半导体技术有限公司取得一项名为“一种物理气相沉积设备”的专利，授权公告号CN 221759955 U，申请日期为2023年12月博鱼·体育(中国)官方入口。

　　专利摘要显示博鱼·体育(中国)官方入口，本实用新型提供一种物理气相沉积设备，所述物理气相沉积设备包括：真空腔室；固定台，设置在真空腔室的底板上；膜料池，设置在所述固定台上；电子束发生装置，设置在所述固定台的内腔中博鱼·体育(中国)官方入口博鱼·体育(中国)官方入口，所述电子束发生装置的开口与所述真空腔室导通；电子束偏转装置，设置在所述固定台一侧，且所述电子束偏转装置与所述电子束发生装置的开口间隔预设距离设置，且所述电子束偏转装置可改变所述电子束发生装置发射的电子束的运动轨迹；以及加热装置，设置在所述真空腔室的顶板上。本实用新型提供的一种物理气相沉积设备，提高了镀膜的质量和可控性。

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